我在腾飞年代搞科研第255章 新的瓶颈

有了陈柏然的加入“晨曦”项目的推进速度不减反增。

姜蕴宁也不必再分心去处理那些繁琐的对外协调能够将全部精力投入在技术攻关上。

光刻机这种复杂设备的研发流程大致可以分为四个阶段：研发、调试、小批量试产、全面量产。

目前姜蕴宁他们正处在调试阶段对原型机进行各项性能测试包括精度、稳定性以及环境适应性等。

调试成功后会先进行小批量生产验证实际产能、良率和工艺稳定性。

只有在试产阶段良率达标、材料供应充足、工艺成熟后项目才会进入全面量产。

洁净室内光刻机旁弥漫着低沉而均匀的机械嗡鸣。

姜蕴宁站在设备前手中拿着刚从光刻机台出来的小批量晶圆。

她把晶圆放到显微镜下目光随着镜头缓缓移动——整体图案大致清晰但在几个局部区域仍能捕捉到细小的缺陷痕迹。

“良率67%属于调试阶段的正常范围”她低声自语但眉头微微皱起“还有提升空间。

” 调试阶段良率一般比较低大概在50%–70%。

这个数值是通过抽样观察和简单检测仪器得到的用来判断设备和工艺的整体表现。

良率67%说明设备和工艺基本稳定但仍需要调整。

不过姜蕴宁心里清楚这只是一个初步评估。

要想得到正式、可靠的良率统计还必须将晶圆送去专业检测中心用精密设备覆盖更多样本区域确保每片晶圆都符合设计要求。

调试阶段的显微镜观察只能提供趋势和问题指示而送检结果才能作为研发和后续量产决策的依据。

姜蕴宁走向控制台调出每一片晶圆的曝光记录和掩膜版使用次数。

掩膜版在光刻过程中存在不可避免的损耗——每次曝光紫外光都会对其光学性能造成微小影响。

随着使用次数增加图案可能出现轻微磨损或透光率下降从而影响晶圆的精度和良率。

“把掩膜版的自检程序跑一遍看看是否存在问题。

”她低声吩咐旁边正在做记录的许念。

许念迅速操作机台启动了掩膜版的在线自检程序。

一会儿之后屏幕上显示出掩膜版部分区域的透光率略有波动提示存在光学偏差或微小缺陷需要进一步人工检查确认。

“看来问题出在掩膜版。

”姜蕴宁目光一凝轻声吩咐“把掩膜版取出来做一次检测。

” 几名技术员按照操作规定小心取下掩膜版放入专用防尘盒中送至专用检测台进行检查。

在放大检测仪的光学投影下掩膜版的表面被逐层扫描。

很快一处细微的划痕显现出来旁边区域的透光率也出现了异常波动。

姜蕴宁戴着手套指着检测屏幕上的标记点沉声道：“这里有划痕透光也不均。

良率下滑很有可能就是它造成的。

” 周围几人纷纷点头神情凝重。

这时操作工程师颜纯艺抱着一只防护盒走过来低声汇报道：“姜工新到了一批改良版掩膜版要不要替换验证小批量试产？” 姜蕴宁略微思考了一下点头示意。

颜纯艺和其他几位技术员小心翼翼地拆下旧掩膜版更换上新的。

许念则在一旁调整光刻机的曝光参数优化对焦和光强确认后她说道：“参数正常可以启动。

” 接着她按下启动按钮机器重新运转起来。

十几分钟后新晶圆被取出送到显微镜下。

姜蕴宁俯身观察图案清晰了许多局部缺陷的数量明显降低。

她抬头看向身边的许念等几人轻声说道：“你们也来看一下确认一下良率和图案情况。

” 即便作为核心技术负责人姜蕴宁仍然需要团队成员共同确认结果以避免因为个人主观判断而产生偏差。

几轮测试后良率逐步上升到74%缺陷区域明显减少。

“看来这批材料更适配当前调试条件。

”她轻轻吐了口气但眼神仍旧凝重“调试阶段良率波动正常继续做小批量验证送检确认稳定性。

” “明白。

” 众人立刻分头行动洁净室里再次响起有条不紊的运转声。

不久之后“旭日2号”顺利完成改造与调试正式宣告成功。

然而这并不意味着华国半导体的困境从此解除。

相反新的瓶颈很快显露出来而且比想象中更加尖锐： 核心材料依赖——高纯度光学晶体、掩膜版与光刻胶以及若干特殊金属材料其中不止一种仍受制于国际供应链。

工艺配套不足——设备能用但若没有与之匹配的光刻胶与掩膜版工艺良率和产能依旧无法保证。

外部环境制约——部分环节哪怕不是技术问题也可能因为全球供应与政策因素被卡脖子。

而这些都不是姜蕴宁能够靠“技术”以一己之力去解决的。

她的专长在设备与系统集成上却没法让光刻胶和光学晶体等关键材料凭空出现也没法替代国际上垄断的材料产业。

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