重生回到2014逆天改命第551章 芯片突围到遥遥领先

许振峰的话音刚落会议室里便陷入了短暂的沉默。

许振峰面前那七位都低头看着手中的笔记本不时用笔在上面记录着什么脸上的表情愈发凝重。

过了一会儿天庭排名第四的那位抬起头语气沉重地说：“许总你说的这些情况我们其实已经有所察觉。

最近这几年美国对我国科技企业的打压越来越频繁从制裁中兴、华为到限制向我国出口高端芯片和制造设备他们的意图很明显就是想通过芯片‘卡脖子’遏制我国高科技产业的发展。

但我们一直想知道从技术层面来看美国到底能从哪些环节对我们‘卡脖子’？这些‘卡脖子’的环节我们目前的短板到底有多长？” 这个问题正是许振峰多年来让振峰科创公司攻克的重点。

他放下笔记本条理清晰地解释道：“各位大佬从产业逻辑来看芯片产业的‘卡脖子’问题主要集中在三个核心环节：技术、设备和材料。

这三个环节环环相扣任何一个环节出现短板都会影响整个芯片产业的发展。

” “首先是技术层面”许振峰伸出一根手指缓缓说道“芯片产业的技术‘卡脖子’主要体现在芯片设计和芯片制造两个环节。

在芯片设计环节我们严重依赖进口的EDA软件——EDA软件又称‘电子设计自动化软件’是芯片设计的‘灵魂工具’没有它设计师根本无法完成芯片的电路设计、性能仿真和版图绘制。

目前全球EDA软件市场几乎完全被三家国外的科技公司垄断分别是美国的Synopsys、Cadence和德国的Mentor Graphics这三家公司占据了全球EDA市场95%以上的份额我国EDA软件的国产化率不足5%。

更关键的是高端EDA软件几乎被这三家公司完全垄断比如用于7纳米及以下先进制程芯片设计的EDA软件国内目前还没有任何一家企业能够研发出来。

” 许振峰说到这里有些心虚地看着眼前的七个老者。

实际上早在今年年初的时候振峰科创公司就已经实现突破如今已经通过实验检验效果那是相当“奈斯”。

他顿了顿继续说道：“虽然这些年我国在芯片设计领域有了一定的进展比如华为海思设计出了麒麟系列高端芯片中芯国际能够设计出中低端芯片但在复杂算法和架构设计上我们与国际先进水平仍有很大差距。

举个例子芯片的架构就像房子的‘骨架’目前全球主流的芯片架构主要有ARM架构和x86架构ARM架构被英国的ARM公司垄断x86架构被美国的英特尔公司垄断我国自主研发的芯片架构比如龙芯的LoongArch架构虽然已经实现了部分突破但在生态建设和兼容性上还无法与ARM、x86架构相比。

而芯片的算法就像房子的‘装修’直接影响芯片的性能和功耗目前我国在人工智能芯片、高端服务器芯片的算法设计上还需要依赖国外的技术专利。

” 而这样的问题振峰科创公司也已经突破只不过时机还没成熟许振峰没有对外公布而已。

“在芯片制造环节技术‘卡脖子’的问题更为突出”许振峰的语气变得更加沉重“芯片制造是一个技术密集型的过程需要经过数百道工序其中最关键的技术包括薄膜沉积、光刻、刻蚀等。

薄膜沉积技术是在硅片上形成超薄的薄膜这些薄膜的厚度通常只有几纳米相当于头发丝直径的万分之一目前国际先进水平已经能够实现原子级别的薄膜沉积而我国的薄膜沉积技术还停留在纳米级在薄膜的均匀性和稳定性上与国外存在明显差距。

” “光刻技术更是芯片制造的‘核心中的核心’”许振峰加重了语气“光刻技术就像‘雕刻刀’通过紫外线将芯片设计图刻在硅片上光刻技术的精度直接决定了芯片的制程水平。

目前国际先进的光刻技术已经达到3纳米甚至2纳米而我国最先进的光刻技术还停留在14纳米与国际先进水平相差至少两代。

更关键的是光刻技术的专利大多被国外公司掌握我国在光刻技术的研发上还面临着大量的专利壁垒。

” “刻蚀技术同样不容忽视”许振峰补充道“刻蚀技术是将光刻后的硅片进行精细加工去除多余的部分形成芯片的电路结构。

国际先进的刻蚀技术已经能够实现原子级别的精度而我国的刻蚀技术在精度和效率上还无法满足高端芯片的制造需求。

这些技术上的短板导致我国在芯片制造环节只能生产中低端芯片无法生产7纳米及以下的高端芯片而高端芯片恰恰是智能手机、人工智能、高端服务器等领域的核心部件。

” 听完许振峰的讲解天庭排名第五那位眉头紧锁问道：“许总技术上的短板我们已经清楚了那在设备层面我们的情况又如何呢？毕竟技术的实现离不开先进的设备支撑。

” “您说得很对设备是芯片产业的‘基石’没有先进的设备再好的技术也无法落地”许振峰点头回应“在设备层面我国芯片产业的‘卡脖子’问题主要集中在光刻机、薄膜沉积设备和刻蚀设备上。

其中光刻机是芯片制造最关键的设备被称为‘芯片产业的皇冠明珠’目前全球只有荷兰的ASML公司能够生产7纳米及以下先进制程的EUV光刻机而ASML公司的EUV光刻机不仅价格高达1.5亿美元一台而且还受到美国的技术限制无法向我国出口。

我国虽然已经能够生产用于28纳米及以上制程的DUV光刻机但在技术性能上与ASML的DUV光刻机还有很大差距更不用说EUV光刻机了。

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